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光学膜设备
1涂布基材Coating SubstratePET2运行基材厚度SubstrateThickness25-135 μm3涂布宽度Coating Width1100mm4涂布方式Coating Mode两辊间隙Gap Adjusting For Two Rollers5干燥方式Drying MethodUV固化UV Curing6机械运…
序号项目技术参数备注1适合体系水性溶剂,油性溶剂2运行基材厚度25-188μm3涂布形式微凹版,逗号刮刀,狭缝涂布4张力范围0-50kg全副宽5机械运行速度≤50m/min涂布速度取决于用户具体工艺6涂布宽度800-1600mm7涂布厚…
序号项目技术参数备注1适合体系水性溶剂,油性溶剂2运行基材宽度25-250μm3涂布形式逗号刮刀,狭缝涂布4张力范围0-50kg全副宽5机械运行速度≤50m/min涂布速度取决于用户具体工艺6涂布宽度300-1200mm7涂布厚度15-250…
序号项目技术参数备注1运行基材厚度6-20μm2辊面设计宽度1100mm3涂布方式微凹版,连续双面涂布4保证涂布宽度150-1000mm5机械运行速度≤30m/min6单面涂布厚度1-10μm7烘箱高洁净度全悬浮式8烘道以外导辊约¢120mm铝导…
序号项目技术参数备注1适合体系水性溶剂,油性溶剂2运行基材厚度10-120μm3涂布方式微凹版,逗号刮刀,狭缝涂布4张力范围0-50kg全副宽5机械运行速度≤50m/min涂布速度取决于用户具体工艺6涂布宽度1100-1600mm7涂布厚…

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